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대하여 PMMA보다는 고감도를 나타낸다.
주쇄절단 반응의 양자수율을 향상시키기 위하여 poly(isopropenyl t -butylketone)이 합성되기도 하였다. 감광성 고분자
Positive PR
♦종류
♦ 용해 억제형 Photoresist
♦ 주쇄 절단형 Positive Photoresist
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itive PR
negative
Positive
접착도
좋음
나쁨
분해능
어려움
좋음
막의 두께
4000~17000Å
20000Å
산소와의 반응
반응함
반응하지 않음
노출 관용도
관용도 크다
관용도 적다
j) Development
ⓐ negative PR
- 현상액 : 자일린, 스토다드 용제(stoddar’s solvent),혼합
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Positive PR
빛을 받은 부분이 현상(Develop)시에 제거되는 감광제(Photo Resisit).
PR
Photo Resist
감광성 수지를 말하며 구성 성분은 Polymer, Solvent, Sensitizer로 대표되며 현상되는 형태에 따라 양성(Positive)과 음성(Negative)으로 나뉜다. 양성인 경우는 Sensitizer
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PR제거한다.(PR Strip)
4월 29일 실험 : ‘ Develop까지’
1단계 : 이전 실험을 마친 'Etching'된 실리콘 웨이퍼를 준비한다.
2단계 : ‘Etching'된 실리콘 웨이퍼 위에 ‘Positive PR용액’을 코팅한다.
3단계 : 'soft baking'을 한다.
4단계 : 실리콘 웨이퍼위에 ‘
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exposure, perform photo exposure bake as shown in Table 3. Remove the passive PR except the negative PR parts exposed to UV on the SU-8 resist components coated in the Wafer. Once the development process has been completed, the positive PR is removed and the desired 'T' shaped channel can be seen vi
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PR industry because ever since I took my first marketing course in college, I have felt very passionate toward the industry and cannot imagine myself doing anything else. 1. How would you describe yourself?
2. What specific goals, including those related to your occupation, have you establishe
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