pvd pvd증착

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전문지식 44건

	pvd실험보고서 증착법에 의한 피복물질 피복방법 피복물질 가열온도(K) 증발원 증착속도 (10-9 m/s) 물리증착법 (PVD) 진공증착 Me ≥RT 금속 1.67-1250 sputtering Me, MexBy, MexCy, MexNy,MexOy,MexSy, 기타 합금 “ 금속, 합금 금속화합물 0.17-16.7 ion plating “ “ “ 0.50-833 ion beam pvd pvd증착, 물리증착 증착 실험보고서, pvd실험보고서,	페이지 10페이지 가격 2,000원 등록일 2009.12.09 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	『PVD 증착법과 E-Beam』에 대하여 요약해서 말을 하면 전자빔 증착 방식은 15KeV 까지의 에너지를 가진 고강도 전자선이 증발될 물질을 포함하고 있는 소스 표적에 집중이 된다. 그리고 전자빔으로부터 나오는 에너지가 표적의 일부분을 녹이게 되고, 물질은 소스로부터 증발되 PVD PVD 방법, 증착법 E-beam, 『PVD 증착법과 E-Beam』에 대하여,	페이지 3페이지 가격 1,000원 등록일 2009.10.13 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	PVD&CVD에 대하여 쉽기 때문이다. PVD evaporator : thermal, e-beam, laser sputtering : DC, RF, 마그네트론스퍼터링 step coverage CVD homogeneous reaction & Heterogeneous reaction Mass Transport Controlled vs Surface Reaction Controlled Thermodynamics vs Kinetics MOCVD PECVD HW-CVD Furnace ICP-CVD PVD 물리기상증착, CVD 화학기상증착, PVD&CVD에 대하여,	페이지 29페이지 가격 900원 등록일 2006.08.08 파일종류 피피티(ppt) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	박막증착법의 원리 및 특징 증착(CVD)법 1) 熱 CVD 2) 플라스마 CVD 3) 光 CVD 4) MO-CVD 5) 레이저 CVD 2. 원자층 화학박막증착법(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition, ALCVD) 3. PVD(physical vapor deposition)법 1) 진공증착(evaporation) 2) 스퍼터링(Sputtering) 3) 이온플레이팅(ion pla 박막증착법 원자층 화학박막증착법, 화학기상증착 pvd, 박막증착법의 원리 및 특징,	페이지 11페이지 가격 2,000원 등록일 2006.11.26 파일종류 아크로벳(pdf) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	전기전도도 측정방법[MFB·PVD·CVD] PVD (물리증착법 : Physical Vapor Deposition) 1. PVD에 의한 코팅방법 2. PVD에 의한 코팅법 종류 3. PVD에 의한 코팅법의 방법 및 원리 1 Evaporation Process 2 Sputtering Process 3 Ion Plating Process Ⅱ. CVD (화학기상증착 : Chemical Vapor Deposition) 1. CVD 정의 2. CVD 응용 전기전도도 PVD, MFB CVD, 전기전도도 측정방법[MFB·PVD·CVD],	페이지 6페이지 가격 1,200원 등록일 2003.12.28 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음