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진공이란?
대기압보다 낮은 기체압력의 특정 공간상태
박막 제작에 필요한 진공은 10-2 Pa대 또는
그 이하의 압력
진공의 필요성
1. 깨끗한 환경 제공
2. 적절한 환경 제공
저진공 (Low vacuum)
1기압 ~ 10-3 Torr, Rough Vacuum
기체 상태의 분자 수
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박막이 되는 기본 메커니즘이다.
박막의 제조방법
박막의 제조방법에는 음극 전해 성막법, 무전극 또는 무전기 성막법, 양극 산화법, CVD법 , 액상 에피탁시법, Langmuir-Blodgett 막 형성법, 흡착 방법이 있다
1-1)음극 전해 성막법
성막될 물질
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박막의 플라즈마 강화 사이클릭 증착 방법, 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 2009
신혜라, 박막 트랜지스터의 제조방법 및 상기 방법에 이용되는 식각액 조성물, 동우 화인켐 주식회사, 2008
신수범, 포토리소그래피와 나노임프린트 리소그래피를
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박막을 관찰한다.
5. 결과 및 토의
1) 기상법에 의한 박막제조기술에는 어떤 방법들이 있는지 조사한다.
2) Thermal Evaporation으로 증착되는 발광재료에 대해 조사한다.
* 장비 ON 순서
1. Air, Water, Vent V/V Off 확인
2. Power ON
3. R/P ON, Gause ON
4. F/V ON,
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박막의 형성이 가능하다.
-단점: 성막속도가 낮다. High energy deposition이므로 박막의 불균일과 damage 발생요인이 된다. 박막이 전자, UV, 이온 등에 노출되어 가열된다(100~150℃)
-DC sputtering
직류전원을 이용한 sputtering방법이다. 구조가 간단하며 가
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