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Photolithography :
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정 photo
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Wafer cleaning
1. Types and sources of contamination
2. Wet cleaning
1) RCA cleaning
2) Piranha 세정
3) DHF cleaning (Dilute HF cleaning)
4) Ozone cleaning
5) IMEC cleaning
6) Ohmi cleaning
3. Dry cleaning
1) CO2 세정
2) Plasma 세정(, NF3/H2 plasma, H2 plasma, H2/Ar plasma 세
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Wafer Preparation
2. Czochralski growth Method & Floating Zone growth Method
3. Cz grower(puller) : furnace, crystal-pulling mechanism, ambient control system
4. Pull speed(v), Segregation coefficient(k)
5. Wafer shaping > Grind, Lapping, Etching, Polishing
6. Current and future trend
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wafer cleaning technology/Karen A. Reinhardt
https://www.microscopeworld.com(t-dorkfield-microscopy)
https://petrologyservices.com/transmitted-and-reflected-light-microscopy
https://www.youtube.com/polarizing microscope
https://en.wikipedia.org
Microscopic Techniques
Technical News/Ultraviolet-Ozone
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and twist angles에 따라서도 달라질 수 있다.
(100) wafer의 우수한 전기적 특성으로 오늘날에는 (100) wafer manufacturing이 보다 더 지배적이다.
4. References
[1] http://www.iue.tuwien.ac.at/phd/wittmann/node7.html (Ion Implantation)
[2] http://en.wikipedia.org/wiki/Amorphous_silicon (Am
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증가를 하고 있다. 본 자료는 Wafer bumping과 WLCSP 에 대한 개론과 불량 양상 및 실제 생산 yeild 및 신뢰성에 대한 결과 등에 대한 것을 보여준다. 1. Device Roadmap
2. WLCSP Definition
3. Product Offerings
4. Process flow
5. Production data and reliability data
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and R G Nuzzo)
[4] http://www.cheric.org/board/view.php?code=f05&seq=11402&page=7
[5] 제6판 고체전자공학, Soid State Electronic Devices (벤 스트리트만, 산제이 배너지)
[6] <디스플레이 기술 및 시장동향> 특별연재·6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영
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and Cingolani R, "Holographic nanopatterning of the organic semiconductor poly(p-phenylene vinylene)", Applied Physics Letter, Vol.73 No.26, pp.3926-3928, 1998
4. Cheolyong Noh , "Fabrication of Metallic Membrane Filters Using Laser Interference Lithography and Nano Imprinting Lithography", Yonsei U
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