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기술의 발전과 영화의 변모에 관한 미학적 고찰, 한국미학회, 2005
장주수 외 6명, 전자기술의 발전과 전자부품 기본 고장률의 추이, 한국철도학회, 2011
전용수, 우주기술개발사업 예산안 분석, 대한민국국회, 2007 Ⅰ. 한국의 신공정기술
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공정 기술, 한국공업화학회, 2001
김광주 - 결정화 기술, 한국화학공학회, 2003
박수현 - 결정화 공정을 이용한 폐에칭액의 인산 재활용 기술에 관한 연구, 한양대학교, 2008
이광순 외 1명 - 기획특집 － 결정화 공정 결정화 공정기술, 한국공업화
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공정과목에 대한 예행 실험으로 생각되어, 과목을 수강 시 많은 도움이 될 것 같다.
10. 참고문헌
가. 서적
반도체 공정기술, 황호정 저, 생능출판사
공정플라즈마 기초와 응용, Alfred Grill 저, 정진욱 역, 청문각
직접회로 제조를 위한 반도체
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공정 및 측정 , 전자자료사, 1995, pp.123
5. 이종덕, 실리콘집적회로 공정기술, 대영사, 1997, pp.149
6.반도체 산업 및 반도체 재료 산업의 실태와 전망, 데이콤 산업연구소,1998,pp.117 실리콘 단결정(single crystal)
- 초크랄스키법(CZ법)
- 플롯존법(F
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기술 아키텍처 구축시 이점과 위험성
2. 정보기술 아키텍처 구성
1) 전사적아키텍처(Enterprise Architecture)
2) 기술참조모델(Technical Reference Model)
3) 표준프로파일(Standard Profiles)
Ⅲ. 미국의 과학기술
Ⅳ. 미국의 신공정기술
Ⅴ. 미국의 웹기
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CMP 설명
Chemical Mechanical Polishing
Chemical Mechanical Planarization
Wafer를 화학적 반응(Chemical)과 기계적 힘(Mechanical)을 이용하여 평탄하게(Planarization) 연마(Polishing)하는 반도체 공정.
(Effective) Pattern Density 의 차이← Pattern Layout, Dummy, 증착 방식 및 Pat
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공정수의 ½수준 - 제품제조시간단축
낮은 공정 불량 실현 - 제품 원가 경쟁력 확보
다양한 터치스크린 응용제품 개발에 용이함. 1.Touch Panel 제조 주요 공정
2.Touch Panel 주요기술
3.투명전극재료 개발방향
4.투명전극재료 코팅법 개발방
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공정 설계
1. 신기술 & 디자인 개발
(1) 신기술 개발 ---------------------------------- 3
(2) 신기술 적용의 실질적인 예 ----------------------- 5
(3) 자동차 디자인 -------------------------------- 8
(4) 디자인 기획 ---------------------------------
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공정기술』,2006 1. 실험목적
2. 이론배경
- 산화막(Oxide Film)
- 산화막의 용도(Uses of Oxide Film)
●확산공정
●표면 안정화
●소자보호와 격리
●게이트 산화물 유전체
-딜-그로브의 열 산화 모델(Deal-Grove model)
3. 실험방법
4. 실험결
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통신을 위한 소형 MICOM 프로그램 개발 1. 감지대상별 센서 설계 기술
2. 센서 구조별 3차원 가공기술
3. 스마트 신호처리 ASIC 개발
4. 응용별 Wafer bonding 공정 기술
5. 센서 패키징 기술 최적화 기술
6. 스마트 마이크로 압력센서 적용 기술
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