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acid
Hydrogen peroxide (30%)
10 ml
10 ml
수초~수분
WC
Nitride Ceramic
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Thermal etching in high purity nitrogen
1600℃ 에서 수시간
Si3N4
Molten Salt
Potassium
hydroxide melt
수초~수분, Pt crucible
Si3N4
Hydrofluoric acid
100%
10-15분
Si3N4
Boride Ceramics
부
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acid
15 ml
85 ml
5분~2시간 boiling
Al2O3
Distilled water
Sulfuric acid
50 ml
50 ml
1~5분간 boiling
ZrO2
-5-
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Thermal etching in high purity nitrogen
1600 C에서 수시간
Si3N4
Molten Salt
Potassium hydroxide melt
수초~수분, Pt crucible
Si3N4
Hydrofluoric
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Etching reagent 3% Nital(Approx. 8s)
Composition C 0.88%,Si 0.28%,Mn 0.36%,P 0.020%,S 0.013%
Heat treatment 900℃X5h Furnace cool(Anneaing)
Hardness 180 to 200 HB
etwork Cementite
Magnification ×200
Etching reagent 3% Nitric acid-Alcohol solution(Approx. 10s)
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