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SiO₂박판 두께 측정,반도체 공정중 Oxidation 사용분야
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소개글

SiO₂박판 두께 측정,반도체 공정중 Oxidation 사용분야에 대한 보고서 자료입니다.

본문내용

가 두꺼운 것이 요구되면 상당히 긴 시간이 소요된다.
※ Reference
- Introduction to solid state physics,7th edition (Charles Kittle)
- http://smdl.snu.ac.kr/Lecture/semi_process/data/ch101.ppt
- http://home.mokwon.ac.kr/

키워드

산화,   sio2,   박막두께측정,   Oxidation,   반도체공정,   산화실험,   건식산화,   습식산화

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  • 가격1,000원
  • 페이지수2페이지
  • 등록일2004.12.23
  • 저작시기2004.12
  • 파일형식한글(hwp)
  • 자료번호#280006
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