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of free atoms. In an interactions model of this type the parameters of the material are simply the atomic numbers and the concentrations of the respective atoms . 1. What are the main applications of soft lithography?
2. Identify and explain the factors affecting the resolution of electron bea
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박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat (PR 코팅)
② Soft Bake(소프트 베이크)
③ Photo exposure(노광)
④ Develop(
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실험내용
4. 실험절차
5. 실험이론
(1) 플라즈마 (Plasma) 란?
(2) Lithography 란?
(3) 반도체 제조 공정과 정의
(4) 식각(etching)의 종류와 정의
(5) M R A M (Magnetic Random Access Memory)
(6) 화학공학전공자가 반도체 산업에서 필요한 이유
6. 참고자료
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Printing 기술
◈ 유기 전자공학 기술을 이용한 제품 가상도
- Flexible Display를 적용한 제품 가상도
- Rollable Display를 적용한 제품 가상도
- Wearable, Flexible Display를 적용한 제품 가상도
- Contact Lens Display를 적용한 제품 가상도
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다.
<그림 1-20.1 PLD 기본원리>
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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