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증착법에는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법(L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법(PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다. 이 방법들이 공통적으로 PVD에 묶일 수 있는 이유
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PVD의 정의
진공상태에서 화학반응을 유발시키지 않고 증착 시키려고 하는 물질을 Vaporized Atomic 형태로 Thin Film을 형성 하는 것을 의미.
PVD의 종류
스퍼터링, 전자빔증착법, 열증착법, 레이저분자빔증착법, 펄스레이저증착법등.
→ 증착 시키
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법이나 레이저증착법으로부터 화학기상법으로 급격히 전환된 이후로, 탄소나노튜브의 고품질 수직배향합성, 대량합성기술, single-walled 탄소나노튜브 합성, 탄소나노튜브의 구조 및 형태제어, 성장메커니즘 규명, 전자전계방출특성에 관한 연
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법은 크게 2세대로 구분한다. 1세대의 방법은 전기방전법, 레이저증착법, 열분해법이 있고 2세대 합성법들은 나노튜브의 대량생산을 목적으로 하는 기상합성법이다.
탄소나노튜브를 수직배향으로 합성 할 수 있는 CVD법이 부각 현재 Hot filament
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법은 크게 2세대로 구분한다. 1세대의 방법은 전기방전법, 레이저증착법, 열분해법이 있고 2세대 합성법들은 나노튜브의 대량생산을 목적으로 하는 기상합성법이다.
탄소나노튜브를 수직배향으로 합성 할 수 있는 CVD법이 부각 현재 Hot filament
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