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- RF 마그네트론 스퍼터링에 의해 제조된 AlN 박막의 증착 특성 - 한국세라믹기술원 나노IT소재팀 , 한양대학교 신소재공학과
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재료가 만들어 졌다는 것을 알 수 있다.
또 보고서를 작성하면서 여러 자료들을 보고 알게된 사실인데 박막 증착시의 실험 조건들, 즉 Base pressure나 타겟의 조성비, 기판과 타겟과의 거리, 증착시의 온도 등에 따라 박막 증착의 결과 가 다르게
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및 어닐링(Annealing)
박막 증착의 기술 및 공정
- 개요
1. 기화법 (Evaporation)
2. 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition)
(1) CVD 장치
(2) 박막 성장 메커니즘
3. 스퍼터 증착(Sputter deposition)
(1) 스퍼터링의 정의
(2).스퍼터링의 종류
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재료 연구센터. Ⅰ. 서 론
II. 이론적 배경
1. Sputtering의 원리 및 특징
2. 자기저항의 분류
3. 강자성(ferromagnetic) 박막에서의 비등방 자기저항(AMR) 효과의 현상론적 이론
4. 광 자 기 효 과
Ⅲ. 실 험 방 법
1. 박막의 제작
2. XRD에 의한
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박막 및 그 제조방법
- MOD법에 의한 ITO 투명전도성 박막의 제조
- 화학기상증착법에 의한 ITO박막 제조방법
- 원자층 증착법에 의한 ITO 박막 제조방법 및 인듐 박막 제조방법
- 표면 개질된 인듐 주석 산화물층 및 유기 전계 발광
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