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[이슈] 삼성, 백혈병 문제 7년만에 사과
[Previous Knowledge]
1. 반도체 제작과정과 유해물질
1] 반도체 제작과정
ㄱ. 반도체는 모래에 있는 규소성분을 추출하여 전기로에서 액체 상태로 만들고 이를 규소봉이라는 결정체로 만듬
ㄴ. 규소봉
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제작
5. 오쏘링(Authoring)
6. 포맷팅(FORMATTING)공정
7. 마스터링(Mastering)공정
8. 기타
Ⅵ. DVD(디지털비디오디스크)의 제약사항
1. DVD 비디오 복사방지 칩(copy protection chip)
2. DVD 복제방지 반도체개발
3. 지역별 CODE
Ⅶ. DVD(디지털비디오디스크)
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반도체의 제조공정 중에서 가장 중요한 기술의 하나이다. 역사적으로는 1920년대에 고순도의 금속을 얻는 방법으로 요오드(iodine)법이 등장햇고, 1940년대부터는 고순도 게르마늄, 실리콘의 제조법 등의 반도체공업에 깊은 관계를 갖게 되었고,
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제작하기 위해서는 유전율이 큰 산화물재료를 사용해야 한다는 점이고 동시에 사용되는 산화물의 두께는 얇으면서도 누설전류를 잘 억제하는 재료여야 한다는 결론을 내릴 수 있다.
8. 참고문헌
1) 핵심반도체개론 -장지근 외
2) 반도체소자공
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제작과정(1980년부터 1992년까지)
2. 특수영상 효과기술 도입이후의 제작과정(1993년부터 현재까지)
Ⅵ. 기술도입과 정수기술
1. 정수기술의 평가지표
1) CPE(Comprehensive Performance Evaluation)
2) CTA(Comprehensive Technical Assistance)
2. 오염물질과 그 제거
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