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2Cl3 + H2O = 2 : 1 : 1
HCl + HNO3 + H2O = 1 : 0.08 : 1 가 쓰인다. [8]
마. ITO 기판
- ITO glass란 투명 기판 위에 ITO 박막을 sputtering 방법으로 코팅한 유리를 말한다. 투명 plastic film 또는 sheet 기판에도 적용이 가능하다. (ITO란 Indium Tin Oxide의 약자로, 투명하면서
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대게 13초정도가 소요된다. 하지만 더 확실한 patterning을 위해 20초 동안 overdevelop을 한다. 그 후 DI water에 wafer를 담가서 더 이상 develop이 진행되지 않도록 한다. develop이 끝나면 wafer 표면의 DI water를 blowing(N2)으로 제거한다.
5. Hard baking
Develop으로
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Patterning을 사용하고 각각의 Patterning이 갖는 장단점을 비교하여 왜 다른 Patterning을 사용하지 않는지 알고 또 새로운 공정과정을 어떻게 분석하여 문제점을 해결할 수 있는지 찾을 수 있을 것이다.
1. OLED(Organic Light Emitting Diodes)의 공정과정 이론
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patterning하는경우가 있는데, 대표적인 것이 lift off 공정이다. Lift off란 film deposition 이전에PRpatterning을 하고 그 위에 film deposition을 한 후 PR을 제거함으로서 pattern을 형성시키는 방법을 말한다. PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition
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ubstrate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다.
CF) Pattern plating : thin film HIC 등과 같이 film을 비교적 두껍게 올려야 하는 경우 주로 사용하는 patterning 방식이다. 보통의 경우 deposition(thin&thick) a photolithography a etching의 순으로 patterning을 하는데
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patterning of the organic semiconductor poly(p-phenylene vinylene)\", Applied Physics Letter, Vol.73 No.26, pp.3926-3928, 1998
4. Cheolyong Noh , \"Fabrication of Metallic Membrane Filters Using Laser Interference Lithography and Nano Imprinting Lithography\", Yonsei Univ., pp.8-10, 2006.
5. Sunghoo
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취학전 아동들을 두개 학교에서 53명을 대상으로 한 해 동안 수학 학습 패턴 발달에 대한 연구를 했다. 한 학교를 대상으로는 반복과 공간 패턴에 대해서 연구를 했다. EMPA(Early Mathematical Patterning Assessment)를 기반으로 한 인터뷰를 교육전과 교
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