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전자빔 노광기술이란?
10~100keV 의 높은 에너지를 갖는 전자 빔을 이용하여 집적회로 제작에 필요한 매우 미세하고 정밀한 패턴을 만드는 기술
0. 1㎛ 혹은 그 이하의 패턴의 생성 가능
높은 에너지의 전자 빔을 이용함으로 진공이 필요함
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of free atoms. In an interactions model of this type the parameters of the material are simply the atomic numbers and the concentrations of the respective atoms . 1. What are the main applications of soft lithography?
2. Identify and explain the factors affecting the resolution of electron bea
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E-beam, X선 : 화학증폭형 레지스트 개념 적용
나. Photoresist 개발 방향
(1) 고흡광도
(2) 고감도화
(3) 고해상도
다. 정리를 마치며
lithography는 기술적으로도 반도체 프로세스의 핵심 기술로서 반도체 디바이스의 미세화와 집적화를 주도하는 역할
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1.1 Soft lithography
Microstructure나 nanostructure을 만들기 위한 printing, molding의 과정을 포함하는 technique으로, 일반적으로 printing, molding, transfer의 3단계 과정을 거친다.
1.1.1 Printing
Master를 만드는 과정이다. Photolithography, e-beam, micro-machining, photoresist
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lithography
- Double Pattering Tech.
- Double exposure Tech.
- Self-Aligned double patterning Tech.
- Immersion Tech.
- X-ray Tech.
- Nano-imprint Tech.
- EUV Tech.
◈ 각 타입에 대한 공정 Table과 그에 대한 세부 설명
1. Double patterning and exposure
『<
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Lithography Technique\" , Yonsei Univ. , 2004
7. Eugene Hecht, OPTICS, Addison-Wesley, 2001, pp.476-479. Ⅰ. 서 론
1. 연구 배경
2. 연구 목적
Ⅱ. 홀로그래픽 리소그래피 시스템을 이용한 나노 패턴 제작
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템
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