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반도체 제조 공정 중 막형성 공정 발표자료입니다 - 막 형성공정.pptx
ALCVD : atomic layer chemical vapor deposition) 4) 전기도금 (EP : electroplating) 2. 화학 기상 증착 (CVD) 2. 화학 기상 증착 (CVD) 분류기준 : 반응 에너지원 이름 : Thermal CVD 특징 : 반응기에 주입된 반응기체의 분해 및 박막 증착
막 형성공정 PVD
,
CVD 반도체 제조공정
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반도체 제조 공정 중 막형성 공정 발표자료입니다 - 막 형성공정.pptx
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페이지
24페이지
가격
5,000원
등록일
2014.01.07
파일종류
피피티(ppt)
참고문헌
있음
최근 2주 판매 이력
없음
반도체 제조 기술-화학시상증착 CVD 공정 (CVD chemical vapor deposition 화학시...
ALCVD (Atomic Layer CVD) APCVD (Atmospheric Dressure CVD) ◉ 고순도 고품질의 박막을 형성하는 기술로 저온에서 기화한 휘발성의 금속염(Vapor)과 고온에 가열된 도금할 고체와의 접촉으로 고온분해, 고온반응하고 여기에 광에너지를 조사시켜
반도체 증착
,
화학 CVD
,
반도체 제조 기술-화학시상증착 CVD 공정 (CVD chemical vapor deposition 화학시상증착 공정, CHIP Package 종류와 두
,
페이지
28페이지
가격
3,000원
등록일
2014.10.21
파일종류
피피티(ppt)
참고문헌
없음
최근 2주 판매 이력
없음
박막증착법의 원리 및 특징
ALCVD) 3. PVD(physical vapor deposition)법 1) 진공증착(evaporation) 2) 스퍼터링(Sputtering) 3) 이온플레이팅(ion plating)
(2) 일반적인 스퍼터링, magnetron 스퍼터링 및 UBM(unbalanced magnetron) 스퍼터링에 대해서 설명 및 비교하여라. (3) 박막의
박막증착법 원자층 화학박막증착법
,
화학기상증착 pvd
,
박막증착법의 원리 및 특징
,
페이지
11페이지
가격
2,000원
등록일
2006.11.26
파일종류
아크로벳(pdf)
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최근 2주 판매 이력
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