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전문지식 120건

증착. CVD chemical vapor deposition 화학시상증착 공정 화학기상증착 공정이란? CVD 공정의 유형들 APCVD (Atmospheric Dressure CVD) LPCVD (Low Pressure CVD) PECVD (Plasma Enhanced CVD) IC제조에 있어 주된 CVD 공정들의 예 CVD 방법의 장점 CHIP Package 종류
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  • 등록일 2014.10.21
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CVD/ALD 재료 기술 동향\', (주)유피 케미컬, 2005 [8] 김상훈, ‘Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition’, 전북대학교, 2008 참 고 사 이 트 [9] http://blog.naver.com/ycin6306/90021955004 [10] http://blog.naver.com/ungoni?Redirect=Log&logNo=140021821478 [11] http://blog.naver.com/evagrn?Redi
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  • 등록일 2008.12.21
  • 파일종류 한글(hwp)
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cvd? Principle of cvd High purity and quality deposition Good economy and process control A great variety of chemical compositions High step coverage Selective deposition AdvantageS of CVD Classification of CVD Thermal(conventional) CVD - Operating Temp. : 800 1200 ℃ - Mass Products - Hi
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  • 등록일 2008.12.21
  • 파일종류 피피티(ppt)
  • 참고문헌 있음
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증착되는 금속, 반도체, 부도체의 얇은 층을 말한다.  박막 제조의 대표적인 4가지 방법은 다음과 같다  1) 화학 기상증착 (CVD : chemical vapor deposition)  2) 물리 기상증착 (PVD : physical vapor deposition)  3) 원자층 화학증착 (ALCVD : atomic laye
  • 페이지 24페이지
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  • 등록일 2014.01.07
  • 파일종류 피피티(ppt)
  • 참고문헌 있음
  • 최근 2주 판매 이력 없음
증착되는 것이다. 1. 증착 및 기상증착법의 정의 2. CVD (화학 기상 증착법, Chemical Vapor Deposition) - 원 리 - - 특 징 - 1) 장 점 2) 단 점 2. PVD(물리증착법. Physical Vapor Deposition) 1) PVD(Physical Vapor Deposition) 1) 이온 플레이팅(lon Plating) 2) 스퍼
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  • 등록일 2008.11.28
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논문 5건

LED의 전반적인 설명과 LED의 제조공정방법에 대한 내용이 수록되어 있습니다. 1. LED의 실험배경 및 목적 2. LED란 무엇인가? 3. LED의 특징 및 응용분야 4. LED PKG제조공정 및 성능 비교 실험 5. 실험 일정 6. 참고자료
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  • 발행일 2015.09.08
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기술, 일본진공기술의 박막 제조기술을 활용하기 위한 Win-Win 전략의 일환으로 제휴를 맺었다. Pioneer사도 자사의 양산경험과 SEL사의 저온poly-TFT을 활용하기 위하여 제휴관계를 맺고 있으며, 소니사는 도요타사와 제휴하였다. 또한 한국의 삼성
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  • 발행일 2008.12.04
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  • 저자
반도체 Package공정 중 최근 high performance, 경박단소의 패키지 요구에 가장 부합되는 package로 WLCSP(Wafer Level Chip Size Package)에 대한 요구가 커지고 있다. 그 외에 Flip chip 기술을 위한 Wafer bumping기술 또한 최근 시장에서 그 요구가 증가를 하고 있다.
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  • 발행일 2008.12.24
  • 파일종류 아크로벳(pdf)
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  • 저자
두꺼운 절연체 (트랩 有 or 無 ) 25 제 6 절. Fowler-Nordheim currents 26 1. 작은 바이어스(V < φ0) 28 2. 큰 바이어스(V > φ0) 29 제 3 장. 실험 방법 30 제 1 절 기판 및 시약 준비 30 제 2 절 OTS 증착 31 제 3 절 MIS 커패시터
  • 페이지 56페이지
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  • 발행일 2008.03.12
  • 파일종류 한글(hwp)
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종류 ․․․․․․․ ․․․․․․․․․․․․․․․․․ 7 제 1 항 MCP ․․․․․․․․․․․․․․․
  • 페이지 33페이지
  • 가격 5,000원
  • 발행일 2010.05.17
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취업자료 8건

반도체 기술에 대비하기 위해 꾸준한 자기계발을 통해 현장업무와 사무업무 모두에서 빠른 이해와 적응력으로 제가 가진 역량을 빠르게 발휘할 수 있게 하겠습니다. "오랫동안 꿈을 그리는 사람은, 마침내 그 꿈을 닮아간다" 라는 말이 있습
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  • 등록일 2012.03.23
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  • 직종구분 기타
반도체에 입사하게 된다면, 저는 회사의 성장과 함께 제 자신도 전문적으로 성장하는 것이 목표입니다. 그리고 이를 위해서는 다음과 같은 목표를 설정하고 노력할 것입니다. 첫째로, 회사의 목표와 비전을 잘 이해하고, 제 업무를 효과적으
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  • 등록일 2024.06.21
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 일반사무직
반도체 전공정 간단 요약 -. Photo : 트랙 / 스캐너로 구분되어있으며, 트랙에서는 감광액 도포, Bake 작업을 하며 이후 스캐너로 이동해서 미세 회로 패턴이 새겨진 Mask 위에 노광을 해서 원하는 패턴을 Wafer 위에 새기는 작업이다. 1. 반도체
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  • 직종구분 기타
반도체통신가 고객 중심의 기업문화는 꾸준한 성장의 원동력이 되었다고 생각합니다. 저는 현재 스마트 디바이스의 수요 증가로 가파른 성장세를 보이고 있는 낸드플래시, 모바일 D램, MCP(multi chip package) 및 시스템 반도체 등의 패키징 라인의
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  • 등록일 2012.12.13
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
공정 프로세스에 대해서 좀 더 깊이있는 지식을 배우고자 스터디를 통새 실무 지식을 습득하였습니다. API와 부형제의 특성, 생산 장비와 공정 프로세스에 대한 이해를 돕는데에 기여하였습니다. SK케미칼에 입사하게 된다면, 이전에 경험했던
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  • 등록일 2024.02.24
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
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