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CVD chemical vapor deposition 화학시상증착 공정
화학기상증착 공정이란?
◉ 화학 반응을 수반하는 증착기술로서 부도체, 반도체, 그리고 도체 박막의 증착에 있어 모두 사용될 수 있는 기술
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반도체 공학, 복두출판사, 1995, pp.218
4. 김형열, 반도체 공정 및 측정 , 전자자료사, 1995, pp.123
5. 이종덕, 실리콘집적회로 공정기술, 대영사, 1997, pp.149
6.반도체 산업 및 반도체 재료 산업의 실태와 전망, 데이콤 산업연구소,1998,pp.117 단결정
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및 어닐링(Annealing)
박막 증착의 기술 및 공정
- 개요
1. 기화법 (Evaporation)
2. 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition)
(1) CVD 장치
(2) 박막 성장 메커니즘
3. 스퍼터 증착(Sputter deposition)
(1) 스퍼터링의 정의
(2).스퍼터링의 종류
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증착을 한다.-10분간의 프리 스퍼터로 샘플에 Ti를 증착시킨다.
기판의 온도를 상온에 유지한 상태로 기판과 타겟간의 거리를 고정 한다.
균일한 박막의 증착을 위하여 기판을 일정한 속도로 회전 시킨다.
공정압력을 1mtorr, 4mtor
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증착효과를 얻을 수 있을 것이다.
또한 XRD분석결과 우리가 실험한 Au의 XRD데이터가 JCPDS와 비교해보면, 약간의 오차가 있었다. 그 이유로 코팅시에 Au에 약간의 백금이 첨가가되었기 때문이다.
Ⅳ. 참고문헌
1. Richard C. Jaeger, 반도체공정개론, 교
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제 3 장. 실험 방법 30
제 1 절 기판 및 시약 준비 30
제 2 절 OTS 증착 31
제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34
제 4 장. 실험 결과 38
제 1 절 누설전류 특성 38
제 2 절 펜타센 증착 표면 43
제 5 장. 결 론 51
참고문헌 52
Abstract 55
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반도체 소자의 한계를 극복하는 새로운 소재 및 소자 구조를 제안할 수 있습니다.
고성능, 저전력 반도체 소자를 구현하여 차세대 반도체 기술 발전에 기여할 수 있습니다.
2) 미세공정 및 집적 기술 발전
EUV 리소그래피, 원자층 증착, 3D 집적
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반도체 기술 트렌드에 어떻게 대응하고 있나요?
정기적으로 최신 논문과 기술 동향을 탐색하며, 세미나와 워크숍에 참여해 실무 적용 가능한 최신 기술을 습득합니다. 회사 교육 프로그램과 온라인 강의를 병행해 역량을 강화하고, 변화에 능
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및 분석 보고서 작성에 있어 실무의 퀄리티를 체득하겠습니다. 이후에는 독립적으로 실험을 설계하고 결과를 제안할 수 있는 단계로 성장하겠습니다. 2025 동진쎄미켐 연구개발_반도체 CVD.ALD 박막 증착 공정 및 Precursor 개발 자기소개서
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반도체 공정설계 직무에서 차세대 반도체 공정 최적화 및 신소재 적용 연구를 수행하며, AI 기반의 공정 데이터 분석을 통해 제조 공정의 효율성을 극대화하는 역할을 하고 싶습니다. 또한, 미세공정 한계를 극복하기 위한 새로운 공정 기술
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반도체 산업 속에서도 기초 데이터를 철저히 쌓고 분석하는 기본기와, 소통과 협업을 중시하는 태도를 갖춘 연구원으로 성장하고자 합니다. 에코프로그룹 HN의 미래 성장동력 중 하나가 되기 위해, 매 순간 배우고 연구하며 끊임없이 도전하
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