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특성을 조절하는 것에 의해 {1101} 면으로 구성되는 pyramid 형상의 날카로운 모양으로 성장이 가능하므로, 식각공정과 같은 후속공정없이 에피성장 만으로도 날카로운 tip 형태를 성장할 수 있으므로 이 분야에 크게 활용될 수 있다
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MOCVD의 개요도
4. MOCVD의 응용분야
MOCVD 장치 및 MOCVD 공정은 레이져다이오드(LD: laser diode) 뿐만 아니라 질화물 반도체 LED(Light Emitting Diode: 발광다이오드)의 대량생산 및 자외선 수광소자의 제조에 이용하고 있다.
(1) 청색 LD
√ 청색 LD는 고밀도
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- 대형전광판, 색채영상, 그래픽, 표시소자, 교통신호 등
강유전 물질을 이용한
메모리 소자 MOCVD란게 뭘까?
MOCVD의 Growth System
- GaAs 성장법
- GaN 성장법
MOCVD의 장점과 단점
MOCVD의 응용분야
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증착
1) 세정된 기판 위에 shadow mask를 씌우고, crucible에 알루미늄을 넣는다.
2) Thermal evaporator chamber 안에 (1)에서 준비된 기판과 시료를 넣는다.
3) RP(rotary pump)와 DP(diffusion pump)을 사용하여 chamber 내의
진공도를 10-5~10-6 torr로 유지시킨다.
4) 박
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증착 기술 및 이후 칩 제조를 위한 FAB 공정 기술
-소자 구동 및 방열
-백색 LED 구현을 위한 형광체 기술
다이오드 구조
-휘도의 저하를 최소한으로 하여 층 두께 및 캐리어 농도를 최적화
제조공법
-플립칩 방식의 LED 소자 구현 방식
반도체 에
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