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Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy)은 원료를 Metal-organic 소스를 써서 PVD와 같이 열이나 전자빔, 레이저 등으로 날려보내어 기판 표면에서 화학반응을 일으켜서 고체 상태로 변태되어 증착되게 하는 것이다.
2) Thermal Evaporation으로 증착되는 발광재료
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vaporator, Glass Substrate, Beaker, Crucible, Shadow Mask
(시약)
Acetone
화학식 CH3COCH3이다. 분자량은 58.08으로, 향기가 있는 무색의 액체이다. 물에 잘 녹으며, 유기용매로서 다른 유기물질과도 잘 섞인다. 그래서 물로 세척이 되지 않는 물질을 아세톤으로
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함으로 박막층이 만들어지게 하는 방법.
대표적으로 2가지 방법이 있다.
1) 스파터링(sputtering)
2) 진공증착(vacuum evaporation) 막 형성공정
1. 막 형성공정은?
2. 화학 기상 증착 (CVD)
3. 물리 기상 증착 (PVD)
4. 원자층 화학증착(ALCVD)
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MOCVD의 특징
박막형성 반응에 사용되는 반응가스의 공급원이 유기금속전구체로 낮은 온도에서 공급원의 분압이 높고 분해가 잘되는 장점이 있으므로 박막 증착시 반응가스의 공급을 원활하게 할 수 있다
고순도로 정제된 공급원을 사용할
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공정
저온 화학 기상증착 : 사일테론(SiH4)의 산화에 의한 증착. SiH4와 산소, 질소 혼합 개스가 웨이퍼 위로 흐르면서 산화막이 증착된다. 막의 두께는 5,000～15,000Å이다.
③ 600℃～900℃
MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) : 실리콘 유기화합물(TE
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