GATE 공정 항목
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소개글

GATE 공정 항목에 대한 보고서 자료입니다.

목차

Gate 공정
Gate 형성 공정 step별 이해
Gate profile과 cell 특성
TR별 drain 구조 및 특성

본문내용

Gate step은 가장 작은 pitch의 공정으로 패터닝상으로도 어려울 뿐 아니라, profile의 미세한 변화가 셀 특성에 매우 민감한 영향을 끼치는 공정이다

Flash memory의 gate etch는 stacked-gate 구조로 인해 mask / c-poly / ono / f-poly etch의 4단계로 이루어진다

Gate etch후 damage curing을 위해 실시하는 Gpox 공정은 cell 산포에 직접적인 영향을 미친다
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  • 페이지수16페이지
  • 등록일2021.02.15
  • 저작시기2002.6
  • 파일형식파워포인트(ppt)
  • 자료번호#1145343
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