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실험이론요약 부분
- 박막광학 (황보창권 저, 2008, 테크 미디어) : 결과토의, Megnetron Sputtering
- 개날라리 연구원 : 연구과제 자료조사
(http://marriott.tistory.com)
- 고체물리학 입문 (김일원, 진병문 공역, 2003, 두양사) 1. 실험이론요약
2. 실험 결
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의한 민간건축물이 건축공사비의 1% 또는 총에너지 사용량의 1% 이상을 신재생에너지가 되도록 투자할 경우 용적률 인센티브 부여
2009년까지 월드컵 공원에 ‘에너지제로 하우스’ 건립
2010년 서울시 신청사에 BIPV 도입
친환경 혁신도시 계
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박막 증착법의 원리에 따른 구분
2. 스퍼터링 방법 종류와 그에 대한 설명 및 비교
3. 박막의 특성평가 방법들의 종류와 그 원리 및 얻게 되는 정보
4. 입혀진 박막의 접착력 평가(ASTM D3359-87방법에 의한)와 접착력 향상의 방법 논의
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피하고 있다.
3. 결론
기판에 증착된 박막의 두께는 0.34 이었다.
4. 참고문헌
‘현대물리학’ A.Beiser저, 정원모 번역.
‘고체전자공학’, Streetman, Ben G, 喜重堂, 1991.
전자재료실험 매뉴얼. 목적
이론
실험방법
결과및토론
결론
참고문헌
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증착속도(10-9m/s)
1.67-1250
0.50-833
0.17-16.7
실험방법
1. 크롬 증착 (DC 스퍼터링을 사용하여 10㎛증착한다.)
382V, 0.13Am 사용.
증착 시간 : 1분
W.P : 1.9×10
B.P : 1.8×10
F.G(아르곤) : 40 ACCM
2. TiO2 증착 (RF 스퍼터링을 이용하여 100㎛증착한다.)
가해준 전압 : 90
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ReRAM
2. 비휘발성 메모리 시장 전망
2-1. 대기업 참여 현황
II. 본 론
1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현
2. 실험 방법
1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition
1-2. 전기적 특성 평가 (I-V)
3. 실험 결과 및 분석
III. 결 론
IV. 참고문헌
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제 3 장. 실험 방법 30
제 1 절 기판 및 시약 준비 30
제 2 절 OTS 증착 31
제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34
제 4 장. 실험 결과 38
제 1 절 누설전류 특성 38
제 2 절 펜타센 증착 표면 43
제 5 장. 결 론 51
참고문헌 52
Abstract 55
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의한 발광현상 .............. 11
[그림 2-4] LED DC current의 증가에 따른 광도(luminous intensity) . 12
[그림 2-5] 브리지 정류회로에서의 파형 변화 ..................... 13
[그림 3-1] AC to DC Converter의 회로도 .................. 14
[그림 3-2] 적외선 송신부의 회로도
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영향
2.3 점도
3. 실험방법
3.1 실험재료
3.2 실험 방법
3.2.1 염의 종류와 농도에 따른 W/O에멀젼의제조
3.3 W/O에멀젼의 물성측정
4. 결과 및 고찰
4.1 W/O에멀젼의 점도
4.1.1염의종류와 농도에 따른 점도변화
5. 결론
6. 참고문헌
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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실험
69
화학구조와 반응
2
고분자(유기/물리)화학
36
생화학특론
70
화학반응속도론
3
고분자화학
37
세포생화학
71
화학의 미래
4
고체화학
38
식품생화학(I,II)
72
화학정보학
5
공업화학
39
식품화학(및 영양)
73
환경화학
6
공학기초화학
40
양자화
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물리천문학부
3. 지구환경과학부
4. 농업생명과학대학 공통 질문
5. 식물생산과학부
6. 응용생물화학부
7. 식품동물생명공학부
8. 조경지역시스템공학부
9. 농경제사회학부
Ⅲ. 공과대학
1. 공과대학 공통 질문
2. 재료공학부
3.
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실험하였습니다. 고려 아연에서는 단순히 아연의 제련 및 생산 뿐 만이 아니라 반도체용 고순도 황산을 제조하는 것으로 알게 되었습니다. 비록 학부생으로서의 지식으로 “획기적인 공정 기술을 개발하겠다.”, “공정의 효율적인 시스템
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실험 : 분산구간을 20sec, 60sec, 100sec으로 나누어 2Step으로 mixing을 실시. (PID제어 125℃로 통일)
결과 :분산시간이 증가함에 따라 MV와 t5는 감소, DOH는 증가하는 경향을 보임. MDR은 동등수준을 유지했다. 또한 가류 및 인장강도, 점탄성 결과로서 HD
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