|
자기공학실험, 충남대 고기능성 자성재료 연구센터. Ⅰ. 서 론
II. 이론적 배경
1. Sputtering의 원리 및 특징
2. 자기저항의 분류
3. 강자성(ferromagnetic) 박막에서의 비등방 자기저항(AMR) 효과의 현상론적 이론
4. 광 자 기 효 과
Ⅲ. 실
|
- 페이지 26페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2007.11.27
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
저항체
〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓
내식성 : 부식이 일어나기 어려운 성질
전기 전도성이 떨어진다. Sputtering을 이용한 Ti 증착
1.실험 목적
2
|
- 페이지 31페이지
- 가격 12,600원
- 등록일 2014.01.30
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
Sputtering, ~ Thermal Evaporation, ~ Sol-Gel Spin Coating ] 에칭공정 [~ Stepper, ~ RIE (Reactive Ion Etching) ]과 같은 수많은 공정들이 있다. 이 공정은 화학공학자들이 맡아서 하기 때문에 반도체 산업에서의 없어서는 안 될 중요한 역할을 하고 있다고 생각한다.
|
- 페이지 9페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2007.07.20
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
sputtering법의 개요를 그림을 그려 설명하고 장단점을 비교하라.
6. RF magnetron sputtering법에서 고주파 전원 및 자계를 이용할 경우 유리한 점을 설명하라.
7. 초전도체가 완전 반자성을 갖는 이유를 설명하라.
8. 초전효과 & 압전효과
9. ver
|
- 페이지 7페이지
- 가격 1,000원
- 등록일 2004.11.25
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
Pump 작동 원리(분해 사진)
③TMP 작동 원리
Sputtering 이란?
①Sputtering 과정
②Sputtering 기본 원리
Plasma의 원리
Magnetron Sputtering의 원리 및 작동과정 설명
Magnetron Sputtering 장치 사진
Thermal Evaporation 원리 및 작동과정
Thermal Evaporation 장치 사진
|
- 페이지 9페이지
- 가격 1,700원
- 등록일 2020.11.09
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|