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아이소플렌을 연결하여 현상액에 녹지 않는 중합체를 만들게 된다.
폴리 아이소프렌의 다중화
negitive Photoresist의 또 다른 반응은 첨가된 감응제가 노출된 빛으로부터 에너지를 받아 합성수지 물질의 이중 고리를 끊고, 서로 이웃하는 다른 탄
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and mineral spirits
In 1935, Louis Minsk of Eastman Kodak developed the first negative photoresist
In 1940, Otto Suess developed the first positive photoresist.
In 1954, Louis Plambeck, Jr., of Du Pont, develops the Dycryl polymeric letterpress plate 1. what's the photholithography?
2.
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and apply the Exposure Energy considering the thickness and time. After exposure, perform photo exposure bake as shown in Table 3. Remove the passive PR except the negative PR parts exposed to UV on the SU-8 resist components coated in the Wafer. Once the development process has been completed, the
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and Robert M. Schindler, \"Nostalgic bonding: Exploring the role of nostalgia in the consumption experience.\", Journal of Consumer Behaviour 3.2 (2003)
Wildschut, Tim, Constantine Sedikides, and Filippo Cordaro, \"Self-regulatory interplay between negative and positive emotions: The case of lonelin
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a tool of propaganda and it is too commercial. In other words, when we are "sensible information taker", the positive influence will outweighs the negative influence of media. In a wave of mass media society, the most effective and definite way to make our society better is to build up our own criti
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