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에피택시에 널리 이용 1. 에피택시란 ???
2. 액상 에피택시(LED: Liquid-Phase Epitaxy)
3. 기상 에피택시(VPE : Vapor Phase Epitaxy)
4. 분자빔 에피택시(MBE: Molecular Beam Epitaxy)
5. CVD, PVD
6. Epitaxy 검사장비의 종류 및 설명
7. 박막두께 측정장비 종류 및
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공정의 실현 등에서 유리하며, 최근 많이 채택되고 있는 기술이다. 반도체 제조공정
반도체 제조의 주요 화학반응 공정 - 산화(oxidation) 공정
반도체 제조의 주요 화학반응 공정 - 화학기상증착(CVD) 공정
CVD 반응장치
에피택시(Epitaxy) 공
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포함하는 기체를 도입하여 조절한다.
◎참고문헌 및 자료 출처
- Robert F. Pierret, 박창엽 역, 반도체소자공학, 교보문고, 초판, 1997, pp.149-164 반도체 공정과정
1. 산화
2. 확산
3. 이온주입
4. 리소그래피
5. 박막증착
6. 에피택시
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기상 에피택셜 성장이란?）
〔 화학 반응 또는 열분해〕➠ ➠〔박막형성〕
02 수소화물기상에피택시(HVPE)를 이용한 GaAs
≪ 그 림 ≫
02 공정 첫 번째 단계
Carrier Gas인 H₂를
AsCl₃(실온에서 액체)에
도
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에피택시 공정
단결정 실리콘 위에 각종 반도체 관련 재료들을 올려놓기 위해 일종의 얇은 필름으로 실리콘의 표면을 덮는 코팅공정
각 재료들이 특정 위치에 정확히 위치 할 수 있도록 하는 기초공사
결정 성장 속도가 초크랄스키법 속
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반도체 공정용 드라이에처와 화학기상증착장비(CVD) 개발을 서둘러 기존 트랙장비·매엽식 세정장비(SWP) 등과 함께 전공정 장비 분야를 확대할 계획을 가지고 있습니다. 저는 부가가치가 높은 주요 전공정 장비를 앞세워 시장을 개척하고 반도
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