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전문지식 1,752건

실험 1 : Cleaning & Oxidation 1. 실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 ‘Wafer cleaning & Oxidation’ 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide 층의 두께 변화에 어떤 영향을 주는지
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  • 등록일 2015.02.23
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산화막으로 많은 연구가 수행되고 있다. 3. REFERENCE http://optics.hanyang.ac.kr/~shsong/hitechphysics-note/plasma/17.htm http://www.postech.ac.kr/ce/lamp/ http://mse.hanyang.ac.kr/ulsi/ http://www.law.hanyang.ac.kr/~hjeon/members.htm 1. 반도체 공정에서 산화실험이 필요한 이유 2.
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  • 등록일 2005.12.17
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공정조건의 제어범위가 매우 넓어서 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라 좋은 step coverage를 갖는 등의 특성이 있기 때문이다. ※이론적 배경 CVD는 반도체의 제조공정 중에서 가장 중요한 기술의 하나이다. 역사적으로는 19
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  • 등록일 2013.12.06
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산화법 ④ CVD (chemical vapor deposition) ⑤ 액상 에피탁시법 ⑥ Langmuir-Bliogett막 형성법 ⑦ 흡착방법 (2) 진공 증착 ① 물리적 기초 ② 실험 기술 (3) 이온을 이용하는 방법과 음극 스퍼터링 ① 2극 스퍼터링의 원리 ② 음극 스퍼터링의 몇 가지
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  • 등록일 2008.10.29
  • 파일종류 한글(hwp)
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다. <그림 1-20.1 PLD 기본원리> ◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당 집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학 실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사 박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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  • 등록일 2008.10.29
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논문 8건

LED의 전반적인 설명과 LED의 제조공정방법에 대한 내용이 수록되어 있습니다. 1. LED의 실험배경 및 목적 2. LED란 무엇인가? 3. LED의 특징 및 응용분야 4. LED PKG제조공정 및 성능 비교 실험 5. 실험 일정 6. 참고자료
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  • 발행일 2015.09.08
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  • 저자
반도체 조명 연구를 시작하고 있다. 다행히도 우리나라에서도 작년부터 산자부 지원으로 미약하나마 GaN를 이용한 백색LED 램프 개발이 본격적으로 이루어지고 있다. 그러나 근본적인 고품위 반도체 재료로부터 LED 구현 시 광도, 색 온도, 색
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  • 발행일 2008.12.09
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  • 저자
공정, Guide to, 작자미상, IT SoC Magazine [16] LED 산업동향 및 주요이슈, 최재호, 전자장보센터(EIC), 2007. 8 [17] LED조명, 한국에너지자원기술기획평가원, 그린에너지 전략 로드맵, 20009. 4 제 1 장 서 론 4 제 2 장 본 론 5 2.1 LED의 기초적 원
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  • 발행일 2010.03.24
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  • 저자
산화 탄소, 프레온 가스 등이 적외선의 지구 복사 에너지를 흡수하여 지표면의 온도를 상승시킨다. 4. 빗물에 황산이나 질산이 섞여 강한 산성을 나타내는 비이다. 이 오염의 영향으로 세계 곳곳에 삼림이 황폐화되고 토양이 오염되며, 하천이
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  • 발행일 2011.05.30
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  • 저자
실험에 따라 완전한 직선의 기울기가 아님을 볼 수 있었다. 이것은 항온수조를 이용하여 온도를 조절함에 있어서 외부와 100% 차단되지 못한 것이라 판단된다. 또한 탄소나노튜브가 산화처리된 금속 나노입자들보다 더 높은 열전도도를 갖는
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  • 발행일 2010.04.05
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취업자료 114건

공정 변수를 도출하였습니다. 이를 통해 기존 대비 이동도를 30% 향상시키는 결과를 도출하였으며, 연구 논문을 학술대회에서 발표하는 성과를 거두었습니다. 이러한 경험을 바탕으로, 저는 삼성전자의 반도체 공정설계 직무에서 차세대 반
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  • 등록일 2025.03.14
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  • 직종구분 기타
공정 안정성을 극대화하는 최적의 변수를 도출하였습니다. 그 결과, 기존 공정보다 20% 이상의 패턴 정렬 오차를 감소시키는 성과를 얻을 수 있었습니다. 이러한 경험을 바탕으로, 저는 삼성전자 CTO 반도체연구소에서 차세대 반도체 공정 기
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  • 등록일 2025.03.14
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  • 직종구분 기타
공정과도 호환되는 조건을 찾아내는 데 도전해보고 싶습니다. 7. 향후 5년 후 본인의 비전은 무엇인가요? 반도체 공정에 특화된 케미칼 개발자로서, 연구소와 생산 현장을 연결하는 ‘기술 가교’ 역할을 수행하고 싶습니다. 또한 글로벌 반
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  • 등록일 2025.04.25
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  • 직종구분 일반사무직
공정개선을 제안했습니다. 측정데이터로 상관관계분석, 원가상승 대응안을 수립해 통계적 사고력을 다졌습니다. 또 risk point 선정, 개선검증 실험으로 공정개선하는 공정기술엔지니어의 역할을 배웠습니다." 1. 삼성전자를 지원한 이유와
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  • 등록일 2025.04.04
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
반도체 산업에 대한 관심과 이 직무에서 일하고 싶은 이유 2. 성장 과정: 반도체 관련 학문적 배경, 관련 전공 공부 3. 직무 경험: 실험적 데이터 분석, 품질 향상 프로젝트 경험 4. 문제 해결 능력: 공정 개선 및 품질 관리 사례 5. 입사
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  • 등록일 2025.04.14
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
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