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중성자 그리고 (-)전하를 띄고있는 전자로 구성되어 있다. 1.반도체 재료 및 성질
2.반도체 소자 기초
3 Intergrated Circuit의 발달과정 및 산업에 미치는 영향
4 IC 제품
5 칩제조개요
6 웨이퍼제조
7마스크 제조
8 웨이퍼공정
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Wafer 단결정 성장(CZ법)
7. 마스크 개요
8. 산화막
9. RTP(Rapid Thermal Process)
10. CVD(Chemical Vapor Deposition)
11. ALD(Atomic Layer Deposition)
12. Spin Coating(Spin-On Glass)
13. Photo-Etch 공정(Pattering)
14. Photolithography 공정(PR 도포)
15. 노광공정
16. 광
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반도체를 만들기 좋은 환경은 진공이지만 현실적으로 진공에서 실험하기에는 무리가 있다. 그러나 그것을 위한 노력은 할 수 있다. 화학가스의 유입과 공정실에서 웨이퍼로의 접근에 대한 반응을 조절해야하고, 부적합한 습기와 공기, 생산
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반도체세미나/전전정일,정학기/성안당
공학도를 위한 기초전디전자공학/김영춘/미전사이언스
인류사를 바꾼 100대사건/이정임/학민사 1.PN접합다이오드개요
2.반도체
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반도체 전자 공학 - 이정한
반도체 (공정 및 측정) - 전자자료사 편집부
박막 프로세스의 기초 - 금원찬 외 공저
박막공학의 기초 - 최시영 외 공저
재료과학 - Barrett 외 1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 실험 방법
4. 실험 이론
5. 참
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