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중성자 그리고 (-)전하를 띄고있는 전자로 구성되어 있다. 1.반도체 재료 및 성질
2.반도체 소자 기초
3 Intergrated Circuit의 발달과정 및 산업에 미치는 영향
4 IC 제품
5 칩제조개요
6 웨이퍼제조
7마스크 제조
8 웨이퍼공정
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마스크 개요>
1. 5~6 inch Qz위에 만들고자 하는 칩의 공정별 2차원 패턴을 새긴 순수 석영판
2. Cr을 이용해 빛 투과여부를 조절 가능
3. Wafer에 형성될 패턴보다 4~5배 정도 확대된 패턴 형성
4. 메모리공정의 경우 25~30장 사용
<CVD(Chemical Vapor
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마스크가 말해주는 것들: 코로나19와 일상의 사회학”를 읽고 감염병이 발생시키는 다양한 사회문제 현상, 그 원인과 과정, 그리고 해결 방안 및 대안에 대해서 서술해 보았다. 코로나19 대유행 속에서 방역을 이유로 시행된 정책들이 기본권
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개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat
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