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소자 및 공정 / 정항근 외 2명
실리콘 집적회로 공정기술 / 대영사 / 이종덕
Electron Beam Technology / S.Schiller 박막증착과 e-beam Evaporator의 개요
e-beam evaporation의 특징
e-beam evaporation 과정
e-beam evaporation 원리
e-beam evaporation 기술의 응용
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전자빔총에서 나온 에너지에 의해
액상으로 변함
코팅재의 표면이 기체상으로 승화
되면서 증발
진공의 공간안을 직선적인 비행으로
기판에 증착
기판을 히터로 가열하여 증착성 강화 E-Beam Evaporation 개요
Evaporation 이란?
Electron Be
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Purpose of the Experiment
Understanding the principle and characteristics of the MOS Capacitor
C-V, I-V analysis in accordance with the thickness of the Al2O3 insulator
Insulator thickness (6nm, 12nm, 18nm)
Experimental Background
MOS Capacitor
MOS Capacitor structure
MOS Capacitor pri
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전자의 충돌로 증착 재료가 가열되어 증발한다.
이때 윗부분에 위치한 기판에 박막이 형성된다. Electron beam E-beam Evaporation is…
Principle of E-beam Evaporation
Vacuum
Attention (E-beam Evaporation)
BOC Edwards A306 Evaporator
Melting, Boiling Points
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E-beam evaporator (장치)
[E-beam evaporator]
E-beam evaporation은 chamber 내를 먼저 진공상태로 만든 후 증착하고자하는 증발 원을 전자빔으로 가열해서 기판위에 증발원을 증착시키는 방법이다. 증발에너지는 전자빔을 사용하고 표면개질을 위한 표면에너
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