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이 Shutter를 rotating 시키면서 증착을 조절 해 주어야 SURFACE SOURCE에서 uniform한 박막 증착이 가능하다.
REFERENCE
박막공학 자료 (박원일 교수님)
Materials Science of Thin Films, MILTON OHRING, second edition 여러개의 웨이퍼(wafer)를 uniform하게 증착하는 방법
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개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat (PR 코팅)
② Soft Bake(소프트 베이크)
③ Photo exposure(노광)
④ Develop(
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[7] chap2. 전계효과 트랜지스터(FET) - 디스플레이공학 이준신교수님 강의자료 1. 실험목적 (Purpose)
2. 실험변수 (Variables)
3. 이론배경 (Theories)
4. 실험방법 (method)
5. 실험결과 및 고찰 (result & dicussion)
6. 결론(conclusion)
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증착된 film 두께의 균일도(uniformity)는 떨어지게 된다.
이상에서 살펴본 바와 같이 저항가열법을 이용한 진공증착방법에서 증발원으로 방출된
분자들이 기판 위에 증착되는 증착률은 source의 기하학적인 요소, source와 기판과
의 상대적인 위치
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