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포토레지스트 및 배향막 등 디스플레이용 화학재료 사업을 올해부터 크게 강화할 예정이다. ▪ Photolithography의 정의
▪ Photolithography의 세부 공정 및 재료
TFT 부분
COLOR FILTER 부분
▪ Photolithography의 현 사용현황 및 기업
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공정은 쉽게 이야기하면 전기가 통하는 길을 만들어주는 과정이다. 알루미늄, 티타늄, 텅스텐 같은 금속 재료를 얇은 막으로 증착해 회로 내 소자를 작동할 수 있게 한다. 일곱 번째, 전기적 특성 검사가 이루어지는 EDS 공정은 \'웨이퍼 테스트
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포토레지스트제거로 끝나는 일련의 공정이지만, 그 과정의 각 스텝은 모두 상호간에 영향을 주고받기 때문에 개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정,
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및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist
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3. 기술개발 추이
3.1 기술 개발 현황
3.2 에칭 장비
3.3 에칭 공정
3.4 모델링 및 전산모사
4.기술의 시장성
4.1 기술 분류 별 동향
4.2 국가별 출원 점유율 동향
4.3 국내 중소기업 출원인 특허출원 동향
5. 결론
6. 인용문헌
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