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4. Milton Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press, 1992 1. Introduction
1) CVD의 정의
2) CVD의 분류
2. Thermodynamics and Kinetics
1) Equilibrium Thermodynamics of Reactions
2) Chemical Reaction Kinetics
3. Thermal CVD
1) 압력에 따른 분류
2) Reactor 온도
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thermal-atmospheric-plasma-enhances-bone-fracture-healing/
https://www.innovationnewsnetwork.com/astrophysical-plasma-study-benefits-new-soft-x-ray-transition-energies/20371/
https://www.newscientist.com/article/2308243-deepmind-uses-ai-to-control-plasma-inside-tokamak-fusion-reactor/
https://www.pl
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Jeffrey A.Reimer
- Chemical Engineering Laboratory Ⅱ, SungKyunKwan Univ. chemical Engineering.
- Introduction to Distillation, http://Iorien.ncl.ac.uk/ming/distil/distil0.htm
- http://www.wikipedia.org 1. Objective
2. Theory
3. Apparatus
4. Procedure
5. Attention
6. Results
7. Discussion
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4*)
W(CO)6
Plasma CVD
WF6
Mo
(MoSix*)
열 CVD
MoCl5, H2 (SiH4*)
MoF6, H2(or Si)
5. 참 고 문 헌
[1] Goiyama Hiroshi, ‘CVD핸드북’, 반도출판사, 1993
[2] K.L.Choy, ‘Chemical Vapor depostion of coatings’, Progress in Materials
Science, 2003
[3] Stanley Middleman, K.Hochberg , 'Process Engineering
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Apparatus
Thermal conductivity measuring Apparatus
4. Procedure
Put the test piece between standard cylinders and check the connection of thermocouple. Open the valve#1 to supply the water to the head tank and the keep others closed. Open the valve#3 when the head tank overflows and confirm the flow
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Thermal Evaporator, Glass Substrate, Beaker, Crucible, Shadow Mask, Acetone, Methanol, DI Water, N2 Gas, 알루미늄
4. 실험방법
4.1 기판 세정
1) 준비된 glass를Acetone, Methanol, DI Water 순으로 각각 거즈를 이용하여 세척을 한다.
3) 세척 후 N2 기체로 blow drying 한다.
4) 잔류
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4) 잔류 유기물과 수분을 제거하기 위해서 Convection Oven에서 10분간 건조시킨다.
4.2 막증착
1) 세정된 기판 위에 shadow mask를 씌우고, crucible에 알루미늄을 넣는다.
2) Thermal evaporator chamber 안에 (1)에서 준비된 기판과 시료를 넣는다.
3) RP(rotary pump)
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thermal-atmospheric-plasma-enhances-bone-fracture-healing/
https://www.innovationnewsnetwork.com/astrophysical-plasma-study-benefits-new-soft-x-ray-transition-energies/20371/
https://www.newscientist.com/article/2308243-deepmind-uses-ai-to-control-plasma-inside-tokamak-fusion-reactor/
https://www.pl
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피하고 있다.
3. 결론
기판에 증착된 박막의 두께는 0.34 이었다.
4. 참고문헌
‘현대물리학’ A.Beiser저, 정원모 번역.
‘고체전자공학’, Streetman, Ben G, 喜重堂, 1991.
전자재료실험 매뉴얼. 목적
이론
실험방법
결과및토론
결론
참고문헌
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4. 실험 방법
가. 시편 세척
직경 18㎜ * 18㎜의 Cover glass의 표면을 세척제를 이용하여 손가락 세척을 한다. 그 다음으로 알코올 또는 아세톤을 날라가지 않게 알루미늄박을 씌운 후, 중탕하여 10분간 초음파 세척을 한다.(손세척시
나. 세척한 기
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