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반도체 제조 공정 (반도체 제조 공정 과정, 반도체 제조 공정 웨이퍼 제조, 반도체 제조 공정 회로 설계, 반도체 제조 공정 조사, 반도체 제조 공정 연구, 반도체 제조 공정 분석, 반도체 제조 공정 5단계)
반도체 제조 공정의 큰 흐름
웨이
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반도체의 종류
①불순물양에 따라
②다이오드
③트랜지스터
④I.C(Integrated Circuit : 집적회로)
4. 반도체의 제조공정
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제조를 위한 반도체공정 및 장치 기술 , 이형옥 저, 상학당
박막공정의 기초, 최시영 외 공저, 일진사
나. 논문
최근의 대체세정제와 대체세정기술, 배재흠, 수원대학교 화공생명공학과
다. 기사
Vapor Phase Cleaning : How It Works and What Can Go Wrong by
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공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat (PR 코팅)
② Soft Bake(소프트 베
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공학 분야에서의 기술 개발이 필요함을 느꼈다.
6. 참고문헌
趙한나, Development of Etching Processing of Ni, NiO and TiO2 thin films, 2008, Pages 26-27
李到, Deposition and Etch characteristicsof IZO thin films, 2009년, Pages 26-27, 41-42
신희성, 플라즈마 식각 공정에서 O2 GAS
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