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제조 가격
: 위와 같은 조건을 모두 만족하더라도 고가의 재료라면 대량생산을 하는데 어려움이 따르기 때문에 반도체의
재료로 부적합합니다.
위의 조건을 충족시키며, 반도체 제조 공정에 쓰이는 대표적인 금속에는 알루미늄(Al), 티타늄(Ti
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개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그
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공학 분야에서의 기술 개발이 필요함을 느꼈다.
6. 참고문헌
趙한나, Development of Etching Processing of Ni, NiO and TiO2 thin films, 2008, Pages 26-27
李到, Deposition and Etch characteristicsof IZO thin films, 2009년, Pages 26-27, 41-42
신희성, 플라즈마 식각 공정에서 O2 GAS
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공정에 의한 고순도 탄탈륨 분말 제조, 과학기술부. 2003.
4. 박일 외, 도전체 매개반응법(EMR)법에 의한 미세 Ta 분말 제조, 전북대학교, 2004.
5. 홈페이지
재료정보연구센터, http://icm.re.kr
한국열처리공학회, http://www.ksht.or.kr/index.asp
비나텍 주식
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