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Etching(식각)의 종류
습식 식각(Wet Etching)
Chemical을 사용하여 wafer의 표면을 액체-고체(liquid-solid) 화학반응에 의해 식각이 이루어지게 하는 에칭 공정, 주로 등방성 에칭
건식 식각(Dry Etching)
Chemical을 사용하지 않고 wafer 표면에의 이온 충격
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PHOTOLITHOGRAPHY 란?
Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한
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식각(Etching) 이란?
노광 공정을 통해 형성된 감광제 모형(pattern)들을 마스크로 하고, 마스크 아래에 있는 부분과 외부로 노출된 부분들 사이에 화학 반응이 전혀 다르게 함으로써 마스크로 보호되지 않는 부분들이 공정이 진행됨에 따라 떨
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Wet etching?
액상의 식각 용액(보통 HF solution)에 웨이퍼를
넣어, 화학적 반응에 의해 표면을 식각해 내는 방법.
단점: 미세 가공이 어려움
식각의 불균일성
감광막의 lift-off
under cut 등등
Dry etching 이란?
일반적으로 플
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XPS의 정의(X선 광전자 분광기)
photons이 물질에 입사될 때, 원자나 분자로부터 방출된 전자들의 에너지를 측정하여 재료의 조성, 불순물의 분석 그리고 Sputtering을 통하여 깊이 방향 분포 분석, 화학 결합 상태를 알 수 있는 표면 분석 장비
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화학 기상 증착 ⑭금속배선
조립 및 검사
⑮웨이퍼 자동 선별 ⑯웨이퍼 절단
⑰칩 접착 ⑱금(金) 선 연결 ⑲성형
⑳최종 검사
DEFINITION OF PHOTOLITHOGRAPHY
；빛의 직진성을 이용한 형상 성형 기법
『일정한 빛을,
[
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SiO2 식각
식각 용액은 주로 HF과 NH4F의 혼합액을 사용
화학 반응식은 SiO2 + 4HF ↔ SiF4 + 2H2O
종말점 확인은 산화막의 친수성과 실리콘의 척수성
을 이용하여 현미경으로 물방울 형성을 확인하면 알
수 있다.
Si3N4 식각
식각 용액은 H3P
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수소화물 기상 에피택시
(HVPE, Hydride Vapor Phase Epitaxy)
01
〔단결정 박막의 원료 물질〕➠ ➠〔고온로 내에 도입〕
（기상 에피택셜 성장이란?）
〔 화학 반응 또는 열분해〕➠
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정의
진공 중에서 코팅 시키고자 하는 물질을 물리적 방법 또는 화학적 방법을 사용하여 기판 위에 피막을 형성하는 방법
분류
증착 시키려는 물질이 기판으로 기체상태에서 고체상태로 변화 될 때 과정
Physical Vapor Deposition ; PVD
형성
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Dry Etching
Etching(식각)
• 박막이 형성된 기판(웨이퍼) 위에 불필요한 부분을 제거해 회로 패턴이 드러나도록 하는 과정.
• 회로패턴을 형성시켜 주기 위해 화학물질(습식)이나 반응성 GAS(건식) 를 사용.
Etching(식각)
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