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수 : 3*1014분자/cm3
일반적으로 공업적으로 사용하는 플라즈마
- 만개/백만개의 분자나 원자중에 한 개가 이온화 된 플라즈마란 무엇인가?
플라즈마의 생성
플라즈마의 특성
Chamber안에서의 DC플라즈마
Chamber안에서의 RF플라즈마
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Plasma란?
Plasma의 생성
Plasma의 특성
Chamber 내에서의 DC 플라즈마
Chamber 내에서의 RF 플라즈마
Symmetrical System
Asymmetric System
이온화 된 기체
→ 물질의 제4상
구성 :
(-) 전위의 전자
(+) 전위의 이온
이온화 되지 않은 자연상태의 원자와 분
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RF 20W로 해준뒤 플라즈마를 띄워준다.
④기판이 음극 위쪽이 양극으로 O2, Ar 이 기판을 때려 주게 된다.
⑤CVD 진공유지한 후 Off 해준다.
⑥3개의 시편모두 질소가스로 먼지를 날려준다.
2)스퍼터링
①Target(Ni, Cr, Cu)과 개질 처리된 기판(2), 개질
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RF Power Modulation, Triode Discharge System, Ring Electrode Discharge, Plasma Property Variation as a result of the Particulate Contamination I. 서론
II. 용량결합형 RF 여기 CH4 플라즈마를 이용한 DLC (Diamond-like-Carbon)막 증착 공정 중의 미립자 발생 및 행동양식.
III.
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. 이러한 자기적 특성을 이용하면 전압을 상승시키지 않고 높은 밀도의 플라즈마를 생성시킬 수 있다.
DC에서의 플라즈마 / RF에서의 플라즈마
- DC를 사용할 때 Cathode가 전기를 통하지 못하는 부도체일 경우 Cathode에서 이온에게 전자를 제공하
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RF 전력 장비 구조와 기술 시스템을 철저히 익히는 데 주력하겠습니다. 매뉴얼과 기술자료뿐 아니라, 현장 테스트 결과나 이슈 발생 패턴을 분석하여 장비의 동작 원리와 고장 예측 가능성까지 체계적으로 파악하고자 합니다.
또한, 오실로스
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RF 전력 시스템 분석 및 개선 업무에 직접적으로 기여할 수 있다고 자신합니다.
5. 입사 후 포부
제가 가진 가장 큰 직무 연관 역량은 전자회로 분석 능력과 현장 중심의 문제 해결 경험입니다. 군 복무 기간 동안 RF 송신기, 통신 증폭기, 전력
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RF 플라즈마 장비에서 요구되는 고전압·고주파 설계상의 세부 요소를 습득하겠습니다.
또한 실제 양산 환경에서 요구되는 EMI/EMS 대응 설계, 전원부의 신뢰성 확보, 고주파 회로의 발열 설계 문제에 대해 선임 엔지니어들과 긴밀히 협력하며,
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