박막이 전자, UV, 이온 등에 노출되어 가열된다.
-> 기판 holder의 수냉이 필요하다
- 성막조건이 민감하고 서로 영향을 끼친다.
-> Ar 기체 압력, 전압, bias 전압, 기판온도 등을 조절한다.
3) E-beam evaporator의 증착원리와 과정
E-beam evaporator는 이
증착(evaporation)
2) 스퍼터링(Sputtering)
3) 이온플레이팅(ion plating)
(2) 일반적인 스퍼터링, magnetron 스퍼터링 및 UBM(unbalanced magnetron) 스퍼터링에 대해서 설명 및 비교하여라.
(3) 박막의 특성평가 방법들의 종류와 그 원리 및 얻
3) 종류와 범위
4) 진공 펌프의 선택
5) 진공 펌프의 분류
① 작동 압력 여부에 따른 분류
② 작동원리에 따른 분류
6) 저진공 펌프
로타리 베인 펌프 (Rotary vane pump)
7) 고진공 펌프
오일확산 펌프(Oil diffusion pump)
2. 열 증착법
열 증착법
제 3 장. 실험 방법 30
제 1 절 기판 및 시약 준비 30
제 2 절 OTS 증착 31
제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34
제 4 장. 실험 결과 38
제 1 절 누설전류 특성 38
제 2 절 펜타센 증착 표면 43
제 5 장. 결 론 51
참고문헌 52
Abstract 55