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속도와 핵의 임계 반지름일 것이다. 이러한 개념에 대한 이론은 복잡한 열역학적 분석과 통계학적 분석을 통해 Capillarity Theory와 Walton-Rhodin Theory라는 박막성장 이론으로 정립되었다.
: 증착 속도
: 기판온도에서 박막 핵의 평형 증발속도
Ω : 원
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증착속도, 이온 전류밀도, 이온 대 Ti원자비, resputtering속도의 다양성
① 이온 전류 밀도(그림 b) : 매우 급격히 증가하다가 Vs가 -100∼-500V 사이에서 0.6∼0.8mA/cm2에서 유지
② 보통의 magnetron - 증착된 atom 당 0.3∼0.4 이온의 이온 충돌 유속
③ unbalan
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증착속도 빠르다 (50A/sec)
- 고융점 재료의 증착이 가능하다
- Multiple deposition이 가능하다
단점) - X-ray 발생
- E-beam source위에 원자의 농도가 크므로
와류 또는 discharge가 심하다
※ 참고자료
http://www.semipark.co.kr/semidoc/basic/plasma.asp?tm=1&tms=4
http://blog
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기회 일 것이다. 하지만 이번 실험을 통해서 발광물질과 진공증착에 관해서 접해보면서 이러한 과정들에 관해서 충분히 호기심을 가질수 있었던 좋은 기회였다. ◆ ◆ 1. 실험목적
◆ ◆ 2. 실험순서
◆ ◆ 3. 실험결과
◆ ◆ 4. 고 찰
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at의 무게 = 1.644g
초기 시료의 무게 = 0.049g
Boat의 무게 + 나중 시료의 무게 (실험 후 남은양) = 1.688g
W1 = 0.049g W2 = 0.044g
(5.2 × 10-3 Pa) x (20L) = (8308.65 PaL/(molK))x298K
= 4.20 x mol
(5.3 × 10-3 Pa)*(20L) = (4.20 x +)mol*(8308.65 PaL/(molK))285k
= 0.08 x mol
날아간양 = 0.049- 0.
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증착법
(2) 열처리에 의한 재결정법
(3) 직접 증착법
(4) 엑시머 레이저 열처리법
ELA 방법에 의한 다결정 실리콘‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥6
(1) 결정화 순서
(2) 공 정
(2-1) 전반적 공정
(2-2) E
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증착하여 소자를 제작하고, 소자의 전기적 특성을 측정했습니다. 측정 결과 XX이 너무 얇으면 adhesion 문제가 해결이 되지 않았고, 너무 두꺼우면 오히려 저항이 커져 전기적 특성이 반응속도가 떨어졌습니다. 이를 통해 XX이 4nm일 때 adhesion layer
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