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박막에 속한다.
◈열증발 증착법
도선에 흐르는 전기의 순수 저항을 이용하여 가열하는 방법으로 텅스텐, 티타늄 등을 이용하거나 접점저항을 이용하여 가열함.
①증발 과정시 증발체는 보통 높은 진공 상태에서 열 이 가해짐(P<10Torr)
②압
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박막 ·반도체박막 ·절연박막 ·화합물 반도체박막 ·자성(磁性)박막 ·유전체(誘電體)박막 ·집적회로 ·초전도(超電導)박막 등이 진공 증착법(증기 건조법)을 위시하여 전기 도금법, 기체 또는 액체 속의 산화법, 화합물 열분해법, 전자빔 증착
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박막 성장 방법 중의 하나인 ‘때려내기(Sputtering)에 의한 박막 증착’방법의 원리를 이해하고, 실제로 실리콘 기판에 Cu 박막을 증착해보는 실험이었다.
진공증착법에는 크게 물리적증착, 화학적증착이 있고, 이 중 스퍼터링은 물리적 증착에
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진공 (Low vacuum)
1기압 ~ 10-3 Torr, Rough Vacuum
기체 상태의 분자 수량이 진공용기 내부 표면에 부착되어 있는 분자 수량보다 많은 상태
응용
Food process, Freeze drying, Distillation,
박막 증착(Sputtering, LPCVD : Low pressure
Chemical Vapor Deposition)
플라즈마
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박막공정
1.1. 박막공정의 정의
1.2. 박막공정의 과정
2. 세척
3. 증착
3.1. 증착의 정의
3.2. 증착의 종류
3.3. 증착의 요구 조건
4. PVD
4.1. PVD의 정의
4.2. PVD의 특성
4.3. 진공증착법
4.3.1. 진공증착법-열 증발 증착법(순수저항이
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진공 증착기 1대, 기판이 Glass 1개, 코팅할 매질
4. 실험 방법
(단층 무반사 박막)
다음과 같은 증착기를 이용하여 단층 박막 증착을 한다. 실험시 모든 방비를 만질 때는 위생 비닐장갑을 끼고 만져야 한다.
그림 9. 증착기의 외형
1) 증착실 컴퓨
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박막의 손상과 오염, 그리고 버니어 게이지를 읽는 과정에서 눈으로 측정하기 때문에 정확한 범위를 측정하는데 대한 오차등에 의해서 오차가 좀 발생했지만 우리의 실험기구로 나노의 범위를 측정할수 있었다는데 큰 의미가 있는 실험이었
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박막으로 되기까지의 과정을 설명해보자, 주전자에 물을 넣고 끓이는 경우, 힘차게 수증기가 뿜어져 나오는 것을 상상해 보자, 수증기를 유리로 가리면 유리가 수증기로 흐려지는 것을 알 수 있다. 진공증착이란 유리에 수증기를 가까이 하면
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증착(CVD)법
1) 熱 CVD
2) 플라스마 CVD
3) 光 CVD
4) MO-CVD
5) 레이저 CVD
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증착을 위해서는 진공기(Chamber)와 증착될 물질(Target)과 증착시킬 물질(Substrate) 그리고, target을 가열할 히터(Tungsten Coil)가 구성요소
알파스텝
WAFER 표면 위의 단 차가 있는 박막의 두께(수Å 이상) 및 Step profile을 측정하기 위하여 개발한 장비,
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