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Glow Region
4. Paschen’s law
Ⅲ. RF Discharge
1. Needs for RF
1.1 why not DC
1.2 Efficiency of RF discharge
1.3 13.56 MHz RF
2. Self Bias of RF electrodes
3. Matching Networks
4. Symmetrical and Asymmetrical systems
5. Voltage Distribution in RF system
6. RF Paschen’s Curve
Ⅳ. Ref
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plasma enhanced physical vapor deposition)
PVD의 원리와 같이 물리적인 힘을 가하여 박막 증착시키는 방법으로 비교적 낮은 압력 때문에 plasma가 박막을 때리는 영향이 크다. plasma를 이용하기 때문에 낮은 온도에서도 증착 가능한 방법이다. metal이나 산
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RF가 이용될 수 있다. RF를 사용할 경우 전장의 진폭과 방향이 다양하기 때문에 한 주기 내에서 플라즈마 내의 전자들이 받는 힘이 변하게 된다(한 주기의 일부분에만 true magnetron behavior가 존재). 따라서 플라즈마 내에서 행동하는 전자들의 힘
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RF Power Modulation, Triode Discharge System, Ring Electrode Discharge, Plasma Property Variation as a result of the Particulate Contamination I. 서론
II. 용량결합형 RF 여기 CH4 플라즈마를 이용한 DLC (Diamond-like-Carbon)막 증착 공정 중의 미립자 발생 및 행동양식.
III.
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1)․low-pressure glow discharge를 이용함으로써 화학반응을 촉진시키고, 열적 반응만 있을 때보다 더 낮은 온도에서 plasma-assisted 반응을 가능하게 하는 CVD 공정이다.
2)․energetic particle의 충돌을 이용하여 film의 물리적, 화학적 성질을 개선할
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