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Wafer cleaning
1. Types and sources of contamination
2. Wet cleaning
1) RCA cleaning
2) Piranha 세정
3) DHF cleaning (Dilute HF cleaning)
4) Ozone cleaning
5) IMEC cleaning
6) Ohmi cleaning
3. Dry cleaning
1) CO2 세정
2) Plasma 세정(, NF3/H2 plasma, H2 plasma, H2/Ar plasma 세
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8
Okmectic
55.5
68.2
22.8
0.9
9
Wafer Works
29.3
35.2
32.4
0.5
10
Episil
26.6
35.2
32.4
0.5
합 계
6265.9
7639.5
21.9
100.0
<표. 세계 실리콘 웨이퍼 시장 점유율>
가. 국내업체
(1) LG Siltron
1983년 4월 코실(주)로 설립되어 1989년 4월 동부전자통신(주)으로 상호를 변경하
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wafer 제조공정
(1)단결정 태양전지 Si wafer 제조공정
단결정 성장을 위한 원료준비 원료를 완전히 녹이는 과정 용융물에 종자를접촉
단결정에 결함이 발생하지 않도록 성장시키는 작업을하고 인상속도를 줄여서 서서히 끌어 올리는 과정을
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Wafer Growth
Wafer 제조 공정
Slicing → Wafer Polishing → Circuit Design → Mask Design
Wafer 가공 공정
Oxidation process → Photo Resist Coating → Exposure Process→ Development Process → Etching Process → Ion implantation → CVD → Metallization
Package 공정
EDS test → Sawing →Die B
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Wafer 자동선별
Chip들의 불량 여부를 컴퓨터로 검사하여 불량품을 골라 낸다. 불량 제품은 검은 잉크로 동그란 마크를 찍어 분류한다. (기흥 삼성반도체의 경우 FAB 의 최종공정에 EDS를 운영한다)
15.Wafer 절단
웨이퍼에 그려진 하나하나의 Chip들
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