|
Wafer Growth
Wafer 제조 공정
Slicing → Wafer Polishing → Circuit Design → Mask Design
Wafer 가공 공정
Oxidation process → Photo Resist Coating → Exposure Process→ Development Process → Etching Process → Ion implantation → CVD → Metallization
Package 공정
EDS test → Sawing →Die B
|
- 페이지 22페이지
- 가격 5,000원
- 등록일 2006.08.21
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
부품으로써의 반도체에 호환성을 부여하기 위함이다. 반도체 제조공정소개
I. 회로설계
II. 웨이퍼 가공(Wafer Fabrication)
III. 시험 및 선별(Wafer Sort)
IV. 조립(Assembly/Packaging)
V. 패키지테스트(Package Test)
반도체 제조라인 모습
|
- 페이지 63페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2009.05.30
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
Wafer 자동선별
Chip들의 불량 여부를 컴퓨터로 검사하여 불량품을 골라 낸다. 불량 제품은 검은 잉크로 동그란 마크를 찍어 분류한다. (기흥 삼성반도체의 경우 FAB 의 최종공정에 EDS를 운영한다)
15.Wafer 절단
웨이퍼에 그려진 하나하나의 Chip들
|
- 페이지 11페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2015.03.13
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
웨이퍼는 각각 사각의 다이(die)로 잘려지게되며 'wire bonding'과정으로 보내어 지게 됩니다. 제품을 만드는 가공성의 효과는 전체 웨이퍼위에 다이가 얼마나 동작하는지에 대한 비율(wafer yield)로 결정이 된다..
ASSEMBLY 공정 중 Front 공정
Die Attach(D
|
- 페이지 22페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2012.03.13
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
Wafer)는 합작생산 및 자체 개발생산하고 있으며, 현재 8“위주의 양산체제이고, 12”는 대부분 수입하고 있다. 반도체 공정재료의 Photo Mask, Resist, Process Chemical, 고 순도가스 등은 주로 합작생산을 하고 있으며, 구조재료(조립용)는 Lead Frame, Packag
|
- 페이지 18페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2008.09.20
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|